摘要：為了快速獲取不平整度達(dá)數(shù)微米量級的光學(xué)表面面形分布,提出一種基于變傾角移相的斜入射動態(tài)干涉儀方案。基于邁克耳遜干涉儀主光路系統(tǒng),采用2×2點(diǎn)光源陣列,通過精確控制各點(diǎn)光源在干涉腔的入射傾角,引入等間隔移相,結(jié)合透鏡陣列實(shí)現(xiàn)空間分光,在單個CCD上同時采集四幅移相干涉圖,實(shí)現(xiàn)動態(tài)測量。在68°斜入射角下測量了口徑35 mm硅片的平整度,均方根(RMS)值為1.631μm,峰谷(PV)值為9.082μm。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,將變傾角同步移相技術(shù)引入斜入射干涉系統(tǒng),可以克服環(huán)境震動的干擾,在保證高精度的前提下拓寬了可見光干涉儀的測量范圍。